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Improved Particle Removal and Sub-Nanometer Roughness Control in 4H-SiC Wafers Using PVA Brush Conditioning
- 제목
- Improved Particle Removal and Sub-Nanometer Roughness Control in 4H-SiC Wafers Using PVA Brush Conditioning
- 저자
- 박진구
- 발행일
- 2025-09-16
- 학회명
- ICSCRM 2025
- 개최지
- 부산