상세 보기
극자외선 리소그래피 공정의 극자외선 반사 마스크 및 반사 광학계 표면의 유기 오염물 세정방법
CLEANING SOLUTION FOR REMOVAL OF ORGANIC CONTAMINANT ON EUV MASK AND OPTIC MASK SURFACE USING THE SAME
- 오혜근;
- 박진구;
- 안진호
- 제목
- 극자외선 리소그래피 공정의 극자외선 반사 마스크 및 반사 광학계 표면의 유기 오염물 세정방법
- 제목 (타언어)
- CLEANING SOLUTION FOR REMOVAL OF ORGANIC CONTAMINANT ON EUV MASK AND OPTIC MASK SURFACE USING THE SAME
- 저자
- 오혜근; 박진구; 안진호
- 발행일
- 2019-04-18
- 출원번호
- 10-2017-0054517
- 등록번호
- 10-1972212
- 출원일
- 2017-04-27
- 등록일
- 2019-04-18
- 발행국가
- 대한민국
- 지식재산권 유형
- 특허
- 양수인
- 한양대학교 에리카산학협력단