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Inherently Area-Selective Atomic Layer Deposition of Device-Quality Hf1-xZrxO2 Thin Films through Catalytic Local Activation,
- 제목
- Inherently Area-Selective Atomic Layer Deposition of Device-Quality Hf1-xZrxO2 Thin Films through Catalytic Local Activation,
- 저자
- 김우희
- 발행일
- 2022-05-27
- 학회명
- 2022 한국반도체디스플레이기술학회 춘계학술대회
- 개최지
- 인하대학교 항공우주융합캠퍼스