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Inherently Area-Selective Atomic Layer Deposition of Device-Quality Hf1-xZrxO2 Thin Films through Catalytic Local Activation,
- 제목
- Inherently Area-Selective Atomic Layer Deposition of Device-Quality Hf1-xZrxO2 Thin Films through Catalytic Local Activation,
- 저자
- 김우희
- 발행일
- 2022-01-25
- 학회명
- 제 29회 한국반도체학술대회
- 개최지
- 강원도 하이원 그랜드호텔